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            1064nm 10nm帶通濾光片

            1064nm 10nm帶通濾光片

            更新時間:2020-04-16

            廠家性質:生產廠家

            訪問量:969

            產品特點:帶通濾光片是使特定波長的光透過,使其他波段的光反射(或衰減)的光學元件。工作區域可以是紫外光波段、可見光波段、近紅外光波段、遠紅外光波段,可依照客戶的應用范圍而定。

            產品詳細資料:

            1064nm 10nm帶通濾光片

            帶通濾光片都是在特定的波段允許光信號通過,而偏離這個波段以外的兩側光信號就被阻止了,它的通帶相對來說都是比較寬的,一般半帶寬都是在40nm以上!而該產品是在帶通濾光片中分出來的,是屬于帶通濾光片的一種,它的定義跟帶通濾光片是一樣的,都是在特定的波段允許光信號通過,而偏離這個波段以外的兩側光信號就被阻止了,但是窄濾光片是相對來說是比較窄的。

            蒸發沉積
             
            在蒸發沉積時,真空室中的源材料受到加熱或電子束轟擊而蒸發。蒸氣冷凝在光學表面上。在蒸發期間,通過**控制加熱,真空壓力,基板定位和旋轉可以制造出具有特定厚度的均勻光學鍍膜。 蒸發具有相對溫和的性質,會使鍍膜變得松散或多孔。 這種松散的鍍膜具有吸水性,改變了膜層的有效折射率,將導致性能降低。通過離子束輔助沉積技術可以增強蒸發鍍膜,在該過程中,離子束會對準基片表面。這增加了源材料相對光學表面的粘附性,產生更多應力,使得鍍膜更致密,更耐久。
             
            離子束濺射(IBS)
             
            在離子束濺射(IBS)時,高能電場可以加速離子束。 這種加速度使得離子具有顯著的動能。在與源材料撞擊時,離子束會將靶材的原子“濺射”出來。 這些被濺射出來的靶材離子(原子受電離區影響變為離子)也具有動能,會在與光學表面接觸時產生致密的膜。 IBS是一種**的,重復性強的技術。
             
            等離子體濺射
             
            等離子體濺射是一系列技術的總稱,例如**等離子體濺射和磁控管濺射。不管是哪種技術,都包括等離子體的產生。等離子體中的離子經加速射入源材料中,撞擊松散的能量源離子,然后濺射到目標光學元件上。 雖然不同類型的等離子體濺射具有其*的性質和優缺點,不過我們可以將這些技術集合在一起,因為它們具有共同的工作原理,它們之間的差異,相比這種鍍膜技術與本文中涉及的其他鍍膜技術之間的差異小得多。
             
            原子層沉積
             
            與蒸發沉積不同,用于原子層沉積(ALD)的源材料不需要從固體中蒸發出來,而是直接以氣體的形式存在。 盡管該技術使用的是氣體,真空室中仍然需要很高的溫度。 在ALD過程中,氣相前驅體通過非重疊式的脈沖進行傳遞,且脈沖具有自限制性。 這種工藝擁有*的化學性設計,每個脈沖只粘附一層,并且對光學件表面的幾何形狀沒有特殊要求。 因此這種工藝使得我們可以高度的對鍍層厚度和設計進行控制,但是會降低沉積的速率。
             
             
            鍍膜工藝
             
            不同的鍍膜沉積技術,具有各自的優缺點。瑞研光學可以采用不同的鍍膜沉積技術為您服務。 請聯系瑞研光學,告訴我們哪種鍍膜技術適合您的應用。

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