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            光學窗口片拋光時間過長會出現的現象

            點擊次數:2166 發布時間:2019-12-16
               光學窗口片研磨拋光階段的工藝流程為:粗磨(一致化)-精磨(平坦化)-拋光(鏡面化)。其中,粗磨和精磨階段都是采取磨料沖擊破碎藍寶石表面的方式進行,為純物理作用,拋光一般采用堿性二氧化硅溶膠,一邊對藍寶石表面進行輕微腐蝕,一邊通過拋光墊掃除的方式達到鏡面效果,為CMP拋光,即化學物理拋光法。
              由以上流程可知,藍寶石拋光是一個腐蝕—掃除的過程,其中,腐蝕的厚度僅僅達到埃米級。藍寶石拋光完結應該是鏡片的所有部分都達到鏡面效果。
              在日常加工中,經常碰到光學窗口片拋光過長的現象,時間太長的會出現以下現象:
              1.長方形特別是長條形的四個角拋不透;
              2.表面有坑點;
              3.橘皮水紋等缺陷;
              4.表面發蒙,霧化。
              以上現象,除第三點外,基本都由研磨所產生。
              光學窗口片的拋光是逐漸腐蝕的過程,而腐蝕的深度非常細微,藍寶石拋光時間長,無非就是腐蝕還沒達致全局,要想達致全局,只能延長拋光時間。
              若光學窗口片表面出現坑點,該如何處理?
              表面坑點有兩種基本現象,一是個別坑點且全盤幾乎每片都有;二是單片上密布坑點。頭一種現象產生的原因是研磨砂個別大顆粒擠壓產生的坑點,采取的方式是卸壓,即將上盤的壓力降低,甚至可以利用反壓,同時注意分析是否有碎屑、鐵屑或其他大號砂通過環境傳輸混入,若有此現象,必須清洗機器并過濾砂液,一般來講,混入少量的大顆粒研磨砂,通過研磨一定的時間后會消除。
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